納米壓印機在日常使用中具有眾多特征

更新時間：2024-03-27 | 點擊率：1065

　　納米壓印機具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到最大150毫米。

　　該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。納米壓印機提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。

　　對于壓印工藝，本產(chǎn)品允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。本產(chǎn)品專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。